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상, 진폭 및 편광 상태 제어용 액정 광 변조기

Jenoptik 액정 광 변조기를 사용하여 기계 부품을 이동하지 않고 광학 특성을 안전하고 신뢰성있게 제어할 수 있습니다.

Jenoptik의 액정 공간 광 변조기
액정 광 변조기는 상, 진폭 또는 광파의 편광 상태 변조용으로 매우 적합합니다. 이 제품들은 네마틱 액정 층의 광학 특성의 전기적 제어에 기반합니다.

당사의 액정 실험실 성능에 대한 사례는 개별으로 제어할 수 있는 스트립에 기반한 SLM-S 공간 광 변조기 입니다. 변조기는 430~ 1600나노미터 파장 범위에서 빛에 대해 작동합니다. 제품들은 단일 마스크 또는 듀얼 마스크 어레이가 갖춰져 있습니다. 듀얼 마스크 어레이는 상과 진폭을 동시에 독립적으로 제어할 수 있습니다.

각 320 또는 640 스트립은 12 비트 해상도로 개별적으로 제어할 수 있습니다. 모든 SLM 시리즈 액정 변조기는 USB를 통해 컴퓨터에 쉽게 연결할 수 있습니다.

요청에 따라, 전자제품 개발을 포함하여, 고객의 개별 요구사항에 정확하게 조정된 주문형 광 변조기를 제조합니다.

상, 진폭 및 편광 상태 제어용 액정 광 변조기

장점

  • 강력함: 높은 레이저 출력을 위한  대형 어레이가 갖춰진 단일 픽셀 변조기 및 고해상도 공간 광 변조기
  • USB 인터페이스: 컴퓨터에 쉽게 연결
  • 광범위한 파장 범위: 430–1600 nm
  • 사용자 친화적인 작동: 광범위한 LabView 명령 조합을 제공하는 SLM-S 변조기용 MATLAB 및 C 라이브러리
  • 주문형: 특정 반사 방지 코팅과 같은 고객의 개별 요구 사항을 충족하도록 조정됨

적용 분야

  • 레이저 및 소재 처리: 고전력 및 초단파 펄스 레이저의 펄스 성형
  • 화학: 간섭광 제어
  • 분석: 다차원 현미경 및 분광학
  • 레이저 기술: 펄스 압축
  • 광학: VIS 및 NIR 범위의 광, 특히 레이저 광 변조용 간단한 솔루션
  • 포토닉스: 초고속 프로세스를 연구 및 실행할 때마다 가변 상/진폭 마스크는 fs 레이저 펄스 성형에 사용됩니다.

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